glow-discharge CVD

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Titannitrid — Kristallstruktur Allgemeines Name Titannitrid Verhältnisformel … Deutsch Wikipedia
Plasma-Immersions-Ionenimplantation — Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das… … Deutsch Wikipedia
Plasma Immersions Ionenimplantation — Bei der Plasma Immersions Ionenimplantation handelt es sich um ein Vakuumverfahren zur meist großflächigen Implantation von Ionen in Festkörperoberflächen. Es ist daher eng verwandt mit der Ionenimplantation. Das wesentlichste Merkmal ist das… … Deutsch Wikipedia
Plasmapolymerisation — ist eine spezielle plasmaaktivierte Variante der chemischen Gasphasenabscheidung (PE CVD). Bei der Plasmapolymerisation werden dampfförmige organische Vorläuferverbindungen (Precursor Monomere) in der Prozesskammer durch ein Plasma zunächst… … Deutsch Wikipedia
Ultra high vacuum — (UHV) is the vacuum regime characterised by pressures lower than about 10−7 pascal or 100 nanopascals ( 10−9 torr). UHV requires the use of special materials in creating the vacuum system, extreme cleanliness to maintain the vacuum system, and… … Wikipedia

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